A Characteristics of $HfO_2$ Gate Dielectric Grown by ALD

ALD로 증착한 $HfO_2$ 게이트 유전막의 특성 연구

  • 김용석 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 이동원 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 서동찬 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 홍영의 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2003.10.17