In-situ XPS study of UHV-Atomic Layer Deposition of $TiO_2$ thin films on Si substrates using titanium isopropoxide and water

• 이정오 (국민대학교 화학과) ;
• 이정욱 (국민대학교 화학과) ;
• 곽현태 (국민대학교 화학과) ;
• 성명모 (국민대학교 화학과)

• Lee, Jeong-O ;
• Lee, Jeong-Uk ;
• Gwak, Hyeon-Tae ;
• Seong, Myeong-Mo

• 발행 : 2003.08.20

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