Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2003.05e
- /
- Pages.77-80
- /
- 2003
A Study on Bosch etching by Inductive Coupled Plasma
ICP를 이용한 Bosch 식각에 관한 연구
- Kim, Jin-Hyun (Soonchunhyang Uni.) ;
- Ryoo, Kun-Kul (Soonchunhyang Uni.) ;
- Kim, Jang-Hyun (JML)
- Published : 2003.05.30
Abstract
MEMS(Micro Electro Mechanical System) 기술에서 실리콘 식각기술의 중요성으로 플라즈마 식각기술의 개발이 꾸준히 진행되고 있다. 이중에서 ICP(Inductive Coupled Plasma)는 기존의 증착장치에 유도결합식 플라즈마를 추가로 발생시켜 증착막의 특성을 획기적으로 개선시키는 가장 최근에 개발된 기술이며, 이용에너지를 증가시키지 않고도 이용밀도를 높이고 이용업자들에 방향성을 가할 수 있는 새로운 플라즈마 기술로, 주로 MEMS 제조공정에 응용되고 있다. 본 연구에서는 STS-ICP