한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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- Pages.624-627
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- 2003
RF magnetron sputtering법에 의한 BLT 박막의 후열처리 온도에 관한 영향
The effect of post-annealing temperature on $Bi_{3.25}La_{0.75}Ti_3O_{12}$ thin films deposited by RF magnetron sputtering
- 이기세 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
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이규일
(성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 박영 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
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강현일
(성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 송준태 (성균관대학교 정보통신공학부)
- Lee, Ki-Se (Sungkyunkwan Univ.) ;
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Lee, Kyu-Il
(Sungkyunkwan Univ.) ;
- Park, Young (Sungkyunkwan Univ.) ;
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Kang, Hyun-Il
(Sungkyunkwan Univ.) ;
- Song, Joon-Tae (Sungkyunkwan Univ.)
- 발행 : 2003.07.10
초록
The BLT thin-films were one of the promising ferroelectric materials with a good leakage current and degradation behavior on Pt electrode. The BLT target was sintered at