Implementation of Automatic measurement system for a Change of channel etching thickness with a HTS Transistor

고온 초전도 트랜지스터의 채널 식각 두께에 따른 임계 특성 자동 측정장치 구축

  • 현종옥 (전북대학교 전자정보공학부) ;
  • 강형곤 (전북대학교 반도체 물성 연구소) ;
  • 고석철 (전북대학교 전자정보공학부) ;
  • 한병성 (전북대학교 전자정보공학부)
  • Published : 2003.07.10

Abstract

본 연구는 고온 초전도 자속 흐름 트랜지스터의 채널 식각 두께에 따른 임계 특성의 자동 측정을 위해 나노옴/마이크로 볼트 미터 와 전원공급기 등 측정에 필요한 장비들을 GPIB 인터페이스 보드를 통해 PC와 연결하여 측정 장치를 구축후 직접 제작한 측정 프로그램을 통해 자동으로 시편에 전류, 전압을 가한후 임계 특성값을 효율적인 방법으로 측정하고 측정 결과값들을 시간순서 및 측정 대상에 따라 데이터 베이스화 하는 방법에 대하여 소개한다. 부수적으로 임계 특성의 정확한 측정을 위해 실험에 변수가 되는 요소들을 찾아내고 실험 데이터값들로부터 오차를 발견, 오차의 원인이 되는 식각 방법 및 실험 환경등의 부가적인 요소들을 고려하여 개선된 측정 장치를 구축하는데 경제적, 시간적인 효율성 측면에 대해 언급했다.

Keywords