Proceedings of the Optical Society of Korea Conference (한국광학회:학술대회논문집)
- 2003.02a
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- Pages.244-245
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- 2003
Measurement of phase shift of the grating in photorefractive polymer
광굴절 고분자에서 회절격자의 phase shift 측정
Abstract
광굴절 유기 고분자 재료는 1991년 IBM연구소에서 광굴절 효과를 나타내는 고분자 기억소자로의 기능성을 타진한 후에 광굴절 무기 결정에 비해 높은 회절효율의 가능성, 도핑의 용이성, 저렴한 생산비용, 다양한 응용성 등으로 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 실험에서는 광전도 고분자(Charge transporting molecule)인 SGC와 비선형 광학색소(NLO)인 SGM, Tg를 낮추기위한 가소제인 PEG, 전하 발생체(Photocharge generator, Sensitiser)로 이루어진 (SGC：SGM：PEG：TNF＝30：60：9：1) 광굴절 고분자 복합재료의 특성을 분석하였다. (중략)
Keywords