상압플라즈마 표면처리한 indium tin oxide (ITO) 표면의 특성분석

Characteristic of indium tin oxide (ITO) surface after an atmospheric pressure plasma treatment

  • 정창현 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 이용혁 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 이형철 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 최은식 (정밀가공그룹, 생산기술연구원 LG 전자) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실)
  • 발행 : 2003.05.01