R.F. 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 $TiO_2$ 박막의 특성

Characteristics of $TiO_2$ Thin Film by R.F. Magnetron Sputtering of $TiO_2$ Target

  • 이규성 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 홍성현 (서울대학교 재료공학부)
  • 발행 : 2002.10.18