PECVD 기법에 의해 제조된 나노 결정 Si 박막의 구조 및 광학적 특성

Effect of Reaction Gas on the Structural and Optical Features of nc-Si:H Thin Films Prepared by PECVD Techniques

  • 심재현 (인하대학교 재료공학부) ;
  • 박명범 (육군3사관학교 신소재/시스템학과) ;
  • 한규호 (인하대학교 재료공학부) ;
  • 조남희 (인하대학교 재료공학부)
  • 발행 : 2002.10.18