X-ray reflectivity를 이용한 $Ta_{2}O_{5}$박막의 열처리에 따른 두께와 평균전자밀도 변화 연구

• Yun, Sang-Bae ;
• Lee, Tae-Gwon ;
• Choe, Jin-Tae ;
• Choe, Il-Sang ;
• Kim, Ho-Jeong ;
• Lee, Sun-Yeong

• 윤상배 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
• 이태권 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
• 최진태 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
• 최일상 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
• 김호정 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
• 이순영 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀)

• Published : 2002.02.19

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