한국전자현미경학회:학술대회논문집

Korean Society of Microscopy (한국현미경학회)
권호 표지

RIE(Reactive Ion Etching)를 이용한 TEM 시편의 Carbon Contamination 제거

  • 최근영 ((주)하이닉스 반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 최진태 ((주)하이닉스 반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 김종협 ((주)하이닉스 반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 박주철 ((주)하이닉스 반도체 메모리(연) 분석개발팀) ;
  • 이순영 ((주)하이닉스 반도체 메모리(연) 분석개발팀)
  • Published : 2002.05.01
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Abstract

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