A Simple and Accurate Parameter Extraction Method for Substrate Modeling of RF MOSFET

간단하고 정확한 RF MOSFET의 기판효과 모델링과 파라미터 추출방법

A substrate network model characterizing substrate effect of submicron MOS transistors for RF operation and its parameter extraction with physically meaningful values are presented. The proposed substrate network model includes a single resistance and inductance originated from ring-type substrate contacts around active devices. Model parameters are extracted from S-parameter data measured from common-bulk configured MOS transistors with floating gate and use where needed with out any optimization. The proposed modeling technique has been applied to various-sized MOS transistors. Excellent agreement the measurement data and the simulation results using extracted substrate network model up to 30㎓

RF에서 동작하는 초미세 공정 MOS 트랜지스터의 기판 효과에 따른 기판 회로망과 물리적 의미를 가지는 파라미터 추출법이 고려되었다. 제안된 기판 회로망에는 단일의 저항과 링-형태의 기판 콘택에 의해 생성된 인덕터가 포함되었다. 모델 파라미터는 최적화 과정 없이 단절된 게이트와 공통-벌크 구성을 갖는 MOS 트랜지스터에서 측정된 S-파라미터로부터 추출된다. 제안된 기술은 다양한 크기의 MOS 트랜지스터에 적용되어졌다. 추출된 기판 회로망을 이용한 가상실험 결과와 측정치는 약 300Hz까지 일치함을 검증하였다.