The characteristics of silicon nitride thin films deposited by atomic layer deposition method

원자층 증착 방법으로 증착된 실리콘 질화막의 특성

  • 김혁 (한밭대학교 재료공학과) ;
  • 이주현 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 이연승 (한밭대학교 멀티미디어공학과) ;
  • 이원준 (세종대학교 신소재 공학과) ;
  • 나사균 (한밭대학교 재료공학과)
  • Published : 2002.11.01