Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 2002.11a
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- Pages.81-81
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- 2002
Metal-organic chemical vapor deposition of $HfO_2$ films using a new precursor $Hf(MMP)_4$
$Hf(MMP)_4$ 원료 물질을 이용해서 증착한 MOCVD $HfO_2$ 박막의 특성 분석
Abstract
Keywords