c-$C_4F_8O를 이용한 $Si_3N_4$ CVD 챔버 세정 시 배출된 PFCs에 관한 연구

  • 김기준 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 오창현 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 오병현 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이내응 (성균관대학교 재료공학과)
  • 발행 : 2001.07.05