증착조건 및 열처리조건에 따른 $HfO_2$게이트 유전막의 특성

  • 유정호 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 남석우 (연세대학교 세라믹공학과, 삼성전자 반도체연구소) ;
  • 남서은 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 이동원 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • 발행 : 2001.07.05