증착방법에 따른 $HfO_{2}$ 게이트 유전막의 특성

  • 유정호 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 남석우 (연세대학교 세라믹공학과, 삼성전자 반도체연구소) ;
  • 김민주 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 이동원 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 최효직 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2001.02.22