The hydrogen content of amorphous Si1-xGex films grown by ECR-UHVCVD

  • 이홍로 (서울대학교 재료공학부 및 서울대학교 반도체공동연구소) ;
  • 박진원 (서울대학교 재료공학부 및 서울대학교 반도체공동연구소) ;
  • 여환국 (서울대학교 재료공학부 및 서울대학교 반도체공동연구소) ;
  • 임승현 (서울대학교 재료공학부 및 서울대학교 반도체공동연구소) ;
  • 윤의준 (서울대학교 재료공학부 및 서울대학교 반도체공동연구소)
  • Published : 2001.02.22