The Properties of (Ti, Al)N coatings deposited by inductively coupled Plasma assisted d.c. magnetron sputtering

• Park, Heung-Sik ;
• Jeong, Dong-Ha ;
• Na, Hyeong-Don ;
• Lee, Jeong-Jung ;
• Ju, Jeong-Hun

• 박흥식 (서울대학교 재료공학부) ;
• 정동하 (서울대학교 재료공학부) ;
• 나형돈 (서울대학교 재료공학부) ;
• 이정중 (서울대학교 재료공학부) ;
• 주정훈 (군산대학교 재료공학부)

• Published : 2001.02.22

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