Spectral analyses of the impact of nanotopography of silicon wafers on oxide CMP

산화막 화학적 기계적 연마에 영향을 미치는 실리콘 웨이퍼 나노토포그래피의 스펙트럼 분석

  • 박진형 (한양대학교, 첨단 반도체 소재/소자 개발연구소) ;
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  • 유형철 (한양대학교, 첨단 반도체 소재/소자 개발연구소) ;
  • 박재근 (한양대학교, 첨단 반도체 소재/소자 개발연구소)
  • Published : 2001.11.01