Growth Mechanism and Electrical Properties of $HfO_2$ thin films deposited by ALD

ALD방법으로 증착한 $HfO_2$ 박막의 성장기구와 전기적 성질에 관한 고찰

  • 조문주 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 박재후 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 박병건 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 황철성 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
  • 현광수 (에버테크) ;
  • 정재학 (에버테크) ;
  • 박철수 (에버테크)
  • Published : 2001.11.01