A characteristics of $ZrO_2$ gate dielectric upon annealing

열처리에 따른 $ZrO_2$ 게이트 유전막의 특성

  • 유정호 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 남석우 (연세대학교 세라믹공학과, 삼성전자 반도체연구소) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2000.10.20