Thermally Stable Co-Silicide Formed by Alloyed $Co_{1-x}Ta_x$ Films

Cobalt/tantalum alloy 박막을 이용한 Co-silicide 형성 반응 및 열적 안정성 연구

  • 이덕형 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 김민주 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 고대홍 (연세대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2000.10.20