Crystallographic Characteristics of an Epitaxial C49-$TiSi_2$ Phase Formed in the Si(001) Substrate by $N_2$ Treatment
Si(001) 기판에서 $N_2$ 처리에 의해 형성된 에피택셜 C49-$TiSi_2$ 상의 결정학적 특성에 관한 연구
Abstract
Keywords