Inductively Coupled Plasma Etching of $SrBi_2Ta_2O_9$ Thin Films

$SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 ICP 식각 특성

  • 한윤봉 (전북대학교 화학공학부, 반도체물성연구센터) ;
  • 박진수 (전북대학교 화학공학부, 반도체물성연구센터) ;
  • 임연호 (전북대학교 화학공학부, 반도체물성연구센터) ;
  • 최창선 (전북대학교 화학공학부, 반도체물성연구센터) ;
  • 최락준 (전북대학교 화학공학부, 반도체물성연구센터) ;
  • 이시형 (KIST 박막기술연구센터) ;
  • 이전국 (KIST 박막기술연구센터)
  • Published : 2000.11.01