The optimization of the beam pattern design considering the mutual coupling effects in planar arrays

소자간 상호 간섭이 존재하는 환경에서 평면 배열 빔 설계 기법의 최적화

평면 배열에서 원하는 빔패턴을 얻고자 할 때 각각의 소자들의 자체 방사특성 에 의해 다른 소자가 영향을 받게된다. 보통 이러한 영향은 빔패턴의 변화를 가져올 뿐만 아니라 소자의 성능을 저하시키게 된다. 이러한 간섭을 줄이기 위해서 배열 형태를 바꾸는 등의 구조적인 개선은 많이 시도되어 왔다 그러나 이러한 개선을 통하여 영향을 줄일 수는 있으나 보다 더 정확하게 원하는 사양의 빔을 설계하기 위해서는 최적화 기법을 통하여 이러한 영향을 보상해 주어 야 한다. 본 논문에서는 빔을 설계할 때 상호 간섭 영향을 포함시킨 빔설계 알고리듬을 소개한다. 이 알고리듬은 선형 최소자승법의 해를 기반으로 최적화를 수행하고 상호 간섭의 영향은 coupling coefficients matrix를 도입하였다. 이러한 방법으로 빔을 설계하게 되면 소자의 위치 등을 변화시키지 않으면서 원하는 사양의 빔을 설계 할 수 있게 된다.