Dry etch characteristics of RuO2 thin film using magnetized inductively coupled plasmas

MICP에 의한 $RuO_2$ 박막의 건식 식각 특성

  • 장제욱 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이영준 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이용혁 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이재찬 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
  • Published : 1999.05.01