바이어스 스퍼터링법으로 증착한 Cu 박막의 밀도와 잔류응력 및 비저항과의 관계

Relationship of film density to residual stress and resistivity for Cu thin films deposited by bias sputtering

  • 최한메 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김석필 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 최시경 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • ;
  • ;
  • ;
  • ;
  • O. Anderson (SCHOTT GLAS) ;
  • K. Bange (SCHOTT GLAS)
  • 발행 : 1999.05.01