The Effect of Slurry with Pattern Density, Size & Stepheight on Chemical Mechanical Polishing for sub $0.18{\mu}m$ DRAM

화학기계연마에 있어 패턴 밀도, 크기 및 단차에 따른 슬러리 효과

  • 이상익 (현대전자(주) 선행기술연구소) ;
  • 김창일 (현대전자(주) 선행기술연구소) ;
  • 남철우 (현대전자(주) 선행기술연구소) ;
  • 김삼동 (현대전자(주) 선행기술연구소) ;
  • 김정태 (현대전자(주) 선행기술연구소)
  • Published : 1999.05.01