Characteristics of Sputtered Ta and TaN films by Statistical Method

통계적 실험 방법에 의한 Ta 및 TaN 박막의 증착 특성

  • 서유석 (현대전자 선행기술연구소) ;
  • 박대규 (현대전자 선행기술연구소) ;
  • 이상협 (현대전자 선행기술연구소) ;
  • 김삼동 (현대전자 선행기술연구소) ;
  • 김정태 (현대전자 선행기술연구소)
  • Published : 1999.05.01