The Preferred Orientation Growth of Aluminum Nitride Thin Films deposited by RF Magnetron Sputtering

RF Magnetron Sputtering법으로 제조한 AlN박막의 우선배향성

  • 진덕용 (전북대학교 금속공학과) ;
  • 최대규 (전북대학교 금속공학과) ;
  • 이창엽 (전북대학교 반도체물성 연구센터)
  • Published : 1999.11.01