BCI3NH3-Arr계와 high-frequency pplasma assisted CVD로 합성한 질화붕소막의 대기중에서의 안전성

  • 김홍석 (고려대학교 재료공학과 한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
  • 백영준 (한국과학기술연구원 박막기술연구센터) ;
  • 최인훈 (고려대학교 재료공학과)
  • 발행 : 1999.02.01