Si-SiO2 경계에 분포하는 Border Trapp에 의한 MOS 소자 동작 특성 변화 분석

  • 안병철 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부) ;
  • 노관종 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부) ;
  • 노용한 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부)
  • Published : 1999.02.01

Abstract

Keywords