Thermal Stability of the Interface between TaN Deposited by MOCVD and Electroless-plated Cu Film

MOCVD 방법으로 증착된 TaN와 무전해도금된 Cu 박막 계면의 열적안정성 연구

  • 이은주 (서울시립대학교 재료공학과) ;
  • 김정식 (서울시립대학교 재료공학과)
  • Published : 1998.11.01