Proceedings of the IEEK Conference (대한전자공학회:학술대회논문집)
- 1998.10a
- /
- Pages.569-572
- /
- 1998
Effective Lithography Simulator for Extraction of Photoresist Exposure Parameter
감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기
- Kim, Sang-Kon (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Byun, Sung-Hwan (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Jeong, Yeon-Un (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Cho, Sun-Youg (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Oh, Jin-Kyung (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Lee, Young-Mi (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Lee, Eun-Mi (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Sung, Moon-Gyu (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Sohn, Young-Soo (Department of Physics, Hanyang University) ;
- Oh, Hye-Keun (Department of Physics, Hanyang University)
- 김상곤 (한양대학교 물리학과) ;
- 변성환 (한양대학교 물리학과) ;
- 정연운 (한양대학교 물리학과) ;
- 조선영 (한양대학교 물리학과) ;
- 오진경 (한양대학교 물리학과) ;
- 이영미 (한양대학교 물리학과) ;
- 이은미 (한양대학교 물리학과) ;
- 성문규 (한양대학교 물리학과) ;
- 손영수 (한양대학교 물리학과) ;
- 오혜근 (한양대학교 물리학과)
- Published : 1998.10.01
Abstract
The semiconductor technology for the deep submicron
Keywords