Tantalum Oxide Thin Film Capacitor by Reactive RF Sputtering for GaAs MMICs

  • 문재경 (한국전자통신연구원 화합물반도체 연구부) ;
  • 양전욱 (한국전자통신연구원 화합물반도체 연구부) ;
  • 이재진 (한국전자통신연구원 화합물반도체 연구부) ;
  • 편광의 (한국전자통신연구원 화합물반도체 연구부)
  • Published : 1998.02.01