Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 1997.11a
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- Pages.90-93
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- 1997
The characteristic of Er$^+$ :SiO$_2$ thin film preparation by rf sputtering method
고주파 스펴터링에 의한 Ef$^+$ :SiO$_2$ 박막 제작 특성
Abstract
고주파 반응성 스퍼터링 방법을 사용하여 희토류가 첨가된 SiO
Keywords