RF-magnetron sputtering를 이용한 YSZ(Yttria-stabilized zirconia) 박막의 제조 및 특성 평가

Characterization of YSZ(Yttria-stabilized zirconia) thin film by RF-magnetron sputtering

  • 황순원 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정 연구실)
  • 발행 : 1997.10.01