Buried Layer를 포함한 CMOS Retrogade Well 형성시 Threading Dislocation에 관한 연구

A Study on the Threading Dislocations in the Fabrication of CMOS Retrograde Well Including A Buried Layer

  • 장윤택 (홍익대학교 금속.재료공학과) ;
  • 허태훈 (홍익대학교 금속.재료공학과) ;
  • 노재상 (홍익대학교 금속.재료공학과)
  • 발행 : 1997.10.01