한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)

한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

$O_{3}$/TEOS를 이용한 후막 Si$O_{2}$의 성장 특성

Growth characteristics of thick Si$O_{2}$ using $O_{3}$/TEOS APCVD

  • 이우형 (성균관대학교 재료공학과 광전재료 및 소자연구실) ;
  • 김현수 (삼성전자 통신연구소 광통신연구팀) ;
  • 유지범 (성균관대학교 재료공학과 광전재료 및 소자연구실)
  • 발행 : 1997.10.01
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