계면 활성제 첨가한 암모니아수의 실리콘 웨이퍼와의 반응 및 세정 효과

The effect of surfactants in NH$_4$OH on silicon surfaces and particle removal

  • 박진우 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 한정훈 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 박진구 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 정상철 (LG반도체 기반 기술연구소) ;
  • 김재정 (LG반도체 기반 기술연구소)
  • 발행 : 1997.05.01