Ultra shallow $p^+$n junction formation using the boron diffusion from eppitaxial $CoSi_2$ film

  • 곽준섭 (연세대학교 금속공학과 박막재료연구실) ;
  • 김기범 (연세대학교 금속공학과 박막재료연구실) ;
  • 백홍구 (연세대학교 금속공학과 박막재료연구실) ;
  • 이성만 (강원대학교 재료공학과)
  • Published : 1997.02.01