Preparation and charcterization of Pb(Zr, Ti)O$_3$ thin films by ECR plasma enhanced DC magnetron multi-target sputtering

ECR Plasma Enhanced DC magnetron Multi-target Sputtering 법을 이용한 Pb(Zr, Ti)O$_3$박막 제조 및 특성 평가

  • 김성태 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김현호 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 이원종 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 1996.11.01