한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)

한국재료학회 (Materials Research Society of Korea)
권호 표지

DUV 리소그라피공정에서 $TiO_x$ 박막의 무반사층으로의 응용성

The applicability as an antireflective layer of $TiO_x$ thin film in DUV lithography

  • 전병혁 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 한상수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김경섭 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 이준성 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • ;
  • 배병수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 노광수 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김동완 (삼성전자 반도체연구소) ;
  • 강호영 (삼성전자 반도체연구소)
  • 발행 : 1996.05.01
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드