Reactive ion etching mechanism of $RuO_2$ thin films in $O_2/CF_4$ electron cyclotron resonance plasma

$O_2/CF_4$ ECR 플라즈마를 이용한 $RuO_2$ 박막의 건식식각 기구 연구

  • 이응직 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김종삼 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 김진웅 (현대전자산업주식회사) ;
  • 백기호 (현대전자산업주식회사) ;
  • 이원종 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 1996.11.01