Low-temperature Si epilayer growth by UHV-ECRCVD on LOCOS Patterned wafer

  • 여환국 (서울대학교 재료공학부 및 반돛체공동연구소) ;
  • 박진원 (서울대학교 재료공학부 및 반돛체공동연구소) ;
  • 황기현 (서울대학교 재료공학부 및 반돛체공동연구소) ;
  • 윤의준 (서울대학교 재료공학부 및 반돛체공동연구소) ;
  • 황기웅 (서울대학교 전기공학부 및 반도체 공동 연구소)
  • Published : 1996.06.01