원격 플라즈마 유기금속화학증착법에 의한 GaN 박막 성장에 미치는 rf 질소 플라즈마의 영향

Effects of rf nitrogen Plasma on the growth of GaN thin films by remote Plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition

  • 손철수 (서울대학교 재료공학부 및 반도체공동연구소) ;
  • 김민홍 (서울대학교 재료공학부 및 반도체공동연구소) ;
  • 이재형 (서울대학교 재료공학부 및 반도체공동연구소) ;
  • 허순옥 (서울대학교 재료공학부 및 반도체공동연구소) ;
  • 윤의준 (서울대학교 재료공학부 및 반도체공동연구소)
  • Son, Cheol-Su (Automatic Control Research Center, Dept.of Electirc Engineering, Seoul National University) ;
  • Kim, Min-Hong (Automatic Control Research Center, Dept.of Electirc Engineering, Seoul National University) ;
  • Lee, Jae-Hyeong (Automatic Control Research Center, Dept.of Electirc Engineering, Seoul National University) ;
  • Heo, Sun-Ok (Automatic Control Research Center, Dept.of Electirc Engineering, Seoul National University) ;
  • Yun, Ui-Jun (Automatic Control Research Center, Dept.of Electirc Engineering, Seoul National University)
  • 발행 : 1996.06.01