Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 1996.02a
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- Pages.144-144
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- 1996
A study of dry cleaning for metallic contaminants on a Silicon wafer using UV-excited chlorine radicals
UV-excited Chlorine radical을 이용한 실리콘 웨이퍼상의 금속 오염의 건식세정에 관한 연구
Abstract
Keywords