Characterization of $SrBi_2Ta_2O_9$ thin films preppared by sputtering method by using AFM and XPS

• 추정우 (홍익대학교 화학공학과) ;
• 박주상 (홍익대학교 물리학과) ;
• 김영관 (홍익대학교 화학공학과) ;
• 손병청 (홍익대학교 화학공학과) ;
• 이전국 (한국과학기술연구원)

• Chu, Jeong-U (Dept.of Chem.Eng.Hongik University) ;
• Park, Ju-Sang (Dept.of Chem.Eng.Hongik University) ;
• Kim, Yeong-Gwan (Dept.of Chem.Eng.Hongik University) ;
• Son, Byeong-Cheong (Dept.of Chem.Eng.Hongik University) ;
• Lee, Jeon-Guk (Korea Institute of Science and Technology)

• 발행 : 1996.02.01

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