고밀도 플라즈마를 사용한 Si-Poly/Cl2 Etching

  • 이휘건 (삼성전자 반도체 생산기술팀) ;
  • 차훈 (삼성전자 반도체 생산기술팀) ;
  • 김성경 (삼성전자 반도체 생산기술팀) ;
  • 문대식 (삼성전자 반도체 생산기술팀) ;
  • 김정곤 (삼성전자 반도체 생산기술팀)
  • 발행 : 1995.06.01